各位同仁：
本人刚学习EFD不久，在散热模拟上虽然根据教程也能一点一点的把结果弄出来，但是很多其中的原理总是摸不清楚。比如EFD模拟的基本流程为那样。还有，一些关键步骤的含义。我有两个模拟教程，可是有些步骤不一样，这让人很费解。总结如下：
1.su**ce source与volume source的区别在哪？在插入su**ce source时为什么只选择光源贴片表面而插入volume source时就要选择光源全部？
2.contact resistances是什么意思，为什么在选用此命令时要选择光源表面？
3.添加辐射值的含义是什么呢？
4.计算域的用处是什么？
“打开engineering database，在radiation su**ce
的user defined右侧的空白处右键选择new item，
将name和emissivity coefficient中均输入0.5”这句话又是什么意思呢？
请哪位同仁帮小弟解答解答，谢谢了！