TRCX：掺杂过程分析

在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。




(a)FIB





(b) 掺杂前后对比

回复数 0 切换时间排序
需登录后查阅, 加载中......

++关注

发私信

目前注册实行审核/邀请制，欢迎灯友邀请好友注册,下载币奖励
邀请注册

为什么注册要审核

目前新版公测中，有任何BUG问题都可以联系我们
提交问题

或如无法回复，请访问此地址
提交问题