光机设计中的杂光分析
本帖最后由 TracePro爱发 于 2017-11-6 10:45 编辑
杂散光发生在所有的光学和照明系统中，
如成像光学中的鬼影，光机表面中的一次和多次散射等。
在光学设计中，我们必须需要考虑杂光的影响。
TracePro在成像系统中的应用:
1.使用非序列性描光方式精确计算透镜系统的杂散光行为，并可仿真对象表面的入射、吸收与能量损失。
2.可仿真多层镀膜的光学性质。
3.可汇入主流光学透镜分析软件 ( 如 OSLO、Code V 等 ) 的透镜设计文件。
4.使用重点取样或自动重点取样功能来过滤散射传播路径，来增加天文望远镜或导弹系统中光线到达感光器的样本数。
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