晶元光电发布850nm高效率红外LED
晶元光电研发中心 (EPISTAR LAB)近日成功开发并导入许多前瞻性技术，如新颖性透明导电薄膜 (TCO) 材料、复合式反射镜结构、减少光线吸收之外延设计等。EPISTAR LAB 将相关技术导入后，有效地增加光子萃取效率，已大幅提升IR产品效能，创下多项新纪录。
根据最新数据显示 ，SFPN42芯片尺寸1x1mm2，实验室环境中在操作电流40mA下，达最高光电转换效率75%；操作电流350mA下WPE大于70%；1A操作电流下发光强度更是超越了1W，达输出功率1027mW，如此亮眼的水准使LED更趋于省电节能。
晶元光电目前IR 850nm产品的应用范围除了以往的摇控器、开关等传统应用之外，也包括保全监视、智能触碰屏幕、无线通讯及交通系统等新应用，期望与客户携手将LED光源推广到更具潜力之市场上，并期许能协助客户提升竞争优势。
根据最新数据显示 ，SFPN42芯片尺寸1x1mm2，实验室环境中在操作电流40mA下，达最高光电转换效率75%；操作电流350mA下WPE大于70%；1A操作电流下发光强度更是超越了1W，达输出功率1027mW，如此亮眼的水准使LED更趋于省电节能。
晶元光电目前IR 850nm产品的应用范围除了以往的摇控器、开关等传统应用之外，也包括保全监视、智能触碰屏幕、无线通讯及交通系统等新应用，期望与客户携手将LED光源推广到更具潜力之市场上，并期许能协助客户提升竞争优势。
回复数 0
切换时间排序
需登录后查阅, 加载中......
