各位前辈：小弟在尝试用TP模拟粗化后芯片出光情况，芯片结构如图，用reptile在蓝宝石衬底表面制备纳米孔洞图形，光线5000条，功率1W，发现出光率提高很小，从20提高到22%，我现在不知道的是：
1.蓝宝石衬底需要设置表面属性么 ？
2. 由于在两个界面处构造reptile，软件报错，所以在衬底与外延间增加了1nm的空隙，解决软件问题，请问有影响么？
3.理论上提高很大，可实际模拟，效果很差，实在找不到原因
4. 用reptile功能制备图案，那图案空余的地方该是什么？空气还是上面的外延GaN

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